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對于濕式球磨機的高位布置改造成低位布置方式，進行了長時間的研究，具體操作方法是：先是濕式球磨機的出料罩。觀察出料罩的內部運轉情況，在前半段漿液就已經(jīng)流光，這個時候就被認定可以將出料罩的直徑和長度縮小了。對于濕式球磨機漿液箱的半地下布置，會將人孔門由頂部改到側邊。把漿液箱往濕式球磨機的方面移動，下料管向箱頂部進漿是垂直的，并取消了用來支撐出料罩的土建條形柱子。在漿液箱頂部有出料罩支撐。將頂板和筒體由法蘭連接改用焊接連接。漿液箱內的吸出漿管道窯緊靠筒壁，漿液泵的中心標高也就是出口中心的標高，它和較高時的液面間距要大于0.35毫米。其次是濕式球磨機漿液箱的支撐出料罩，因為下渣管距離箱頂非常近，渣料不能夠直接進到地下，必須依靠人工來對箱頂進行清除，或者將下渣管道從頂板穿過，在側壁引出，渣料就會通過管道流到地面或是溝內，然后再進行人工清掃。較后是要將漿液箱上的溢流口盡量的向上移動，下部設置排空口。漿液箱也可以按混凝土結構設計成方形箱體，其頂板采用搞結構或是混凝土結構都可以。
對于濕式球磨機的出料罩以及漿液箱的改進和完善都取得了認可，石灰石漿液泵的自吸高程也同樣得到了認可，因此在以后的工程中就可以看到濕式球磨機的低位布置方案的運用了。
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